Høj siliciumglas er faktisk en slags glasmaterial med lav udvidelseshastighed, meget høj temperaturmodstand, høj varmebestandighed, høj styrke, høj hårdhed og høj kemisk stabilitet. Den vigtigste forskel mellem det og almindeligt glas er som følger.
1. Den termiske udvidelseskoeficient for højborosilikatglas er meget lav og svarer kun til en tredjedel af den for almindeligt glas. Og denne forskel kan mindske indvirkningen, der skyldes temperaturgradient, og har også en større modstand mod at knække. Derfor er den termiske udvidelseskoeficient for borosilikatglas forskellig fra den for almindeligt glas.
2. De hovedsaglige komponenter i borosilikatglas er faktisk bortoxid og silikidioxid. I produktionen af almindeligt silikatglas tilføjes vandglasisand, sodavand og kalkmel. Bor tilføjes normalt ikke.
3. De bormaterialer og siliciematerialer, der bruges i højborosilikatglas, erstatter faktisk et stort antal skadelige tungmetalloner i råglas, hvilket forbedrer glasets motstandsdygtighed over for kulde og varme. Derfor er kuldemodstanden hos højborosilikatglas og almindeligt glas forskellig med hensyn til evne til at klare termiske chok.
4. Trækstyrken af højborosilikatglas vil være højere end den af almindeligt glas, så dets sprækker vil være relativt store, hvilket er en enhedsfragmentering i stedet for den fragmentering, der findes ved almindeligt glas. Derfor er trækstyrken af borosilikatglas og almindeligt glas også forskellig.