Højt silicaglas er faktisk en slags glasmateriale med lav ekspansionshastighed, meget høj temperaturbestandighed, høj varmebestandighed, høj styrke, høj hårdhed og høj kemisk stabilitet. Hovedforskellen mellem det og almindeligt glas er som følger.
1. Den termiske udvidelseskoefficient for glas med højt borosilikatindhold er meget lav, hvilket kun er en tredjedel af almindeligt glas. Og denne forskel kan reducere indflydelsen forårsaget af temperaturgradient, og har også en stærkere modstand mod brud. Derfor er den termiske udvidelseskoefficient for borosilikatglas forskellig fra den for almindeligt glas.
2. Hovedkomponenterne i borosilikatglas er faktisk bortrioxid og siliciumdioxid. I produktionsprocessen af almindeligt silikatglas tilsættes også vandglassand, sodavand og malet kalk. Bor tilsættes generelt ikke.
3. Bor- og siliciummaterialerne, der anvendes i glas med højt borosilikatindhold, erstatter faktisk et stort antal skadelige tungmetalioner i råglas og forbedrer derved glassets slagfasthed over for kulde og varme. Derfor er koldbestandigheden af højt borosilikatglas og almindeligt glas. Evnen til termisk stød er anderledes.
4. Trækstyrken af højborosilikatglas vil være højere end almindeligt glas, så dets revner vil være relativt store, hvilket er en enhedsfragmentering snarere end fragmenteringen af almindeligt glas. Derfor er trækstyrken af borosilikatglas og almindeligt glas også forskellig.